Szczegóły publikacji
| Autorzy | Michał Stȩpniak, Sylwia Owczarek, Adam Szyszka, Mateusz Wośko, Regina Paszkiewicz |
| Temat publikacji | Characterization of the parasitic masking layer formed during GaN SA-MOVPE using PECVD SiO2 masks |
| Magazyn | Applied Surface Science |
| Nakład | 640 |
| Rok publikacji | 2023 |
| Strony | 158325,1-8 |