Szczegóły publikacji
| Autorzy | R. Dylewicz, R. M. De La Rue, R. Wasielewski, P. Mazur, G. Mezősi, A. C. Bryce |
| Temat publikacji | Fabrication of submicron-sized features in InP/InGaAsP/AlGalnAs quantum well heterostructures by optimized inductively coupled plasma etching with Cl2/Ar/N2 chemistry |
| Magazyn | J. Vac. Sci. Technol. |
| Nakład | B 28(4) |
| Rok publikacji | 2010 |
| Strony | 882-890. |